项目

描述

曝光系统

光源强度

350W UV曝光源

分辨率

1μm（真空接触）

光强均匀性

≦±3%（4英寸基片）

曝光时间可调范围

0.1 to 999.9秒

对准系统

对准精度

1μm

间隙校准

手动（数码显示）

控制器

PLC控制

制程模式

真空，硬，软接触和接近式

PSS制程（真空接触）

接近式调节

1μm增量

吞吐量

50片/小时

样品　

基片尺寸

2，3，4英寸

掩模尺寸

4，5英寸

其它配备

真空度

＞650mmHg

压缩空气

＞6kg/c㎡

氮气

＞4kg/c㎡

电源

220V，30A，1Phase

监视器

19寸液晶